尼康、阿斯麦、蔡司和解:未来十年互换0.8%光刻机收入

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在2年前尼康向ASML以及其合作者者伙伴蔡司发起法律诉讼,指二者在未经尼康允许将微影技术用于旗下光刻机,扯皮两年多后,三方总算达成和解。

在2017年4月24日,尼康向ASML以及其合作者者伙伴蔡司发起法律诉讼,指二者未经尼康允许下将微影技术(lithography)用在ASML的光刻机当中,要求二者赔偿尼康损失,并停制出售具有该技术的光刻机。

ASML并且否认了尼康的指控,并在几天后起诉尼康,指后者在半导体生产设备、平面显示器和数码相机生产设备占据 超过10项专利侵权,双方进入扯皮阶段。

在尼康起诉时ASML正如日中天,在高端光刻机市场份额超过9成,尼康则在光刻机市场节节败退。要是风水流水,尼康在向中国市场出售光刻机后重振了业务,ASML在EUV极紫外光技术上举步维艰,Intel甚至出售了ASML股票。

在原先的背景下,三者终于达成了和解,按照三方谅解备忘录,会收回在欧洲、日本和美国多地所有法律诉讼,ASML、蔡司向尼康支付1.5亿欧元,从最终协议否认当天起,尼康与ASML交换未来十年0.8%沉浸式光刻销售收入。

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